НИОБИУМ СТРУПТИНГ ТАРТИОН

НИОБИУМ СТРУПТИНГ ТАРТИОН

НИОБИУМ ТРЕТ ТРЕТ је материјал који се користи у процесу превлачења превлачења, углавном за формирање танких филмова на подлозима. Ниобијум циљани материјали имају високу чистоћу, јединствени оксидни филмски квалитет, отпорност на високу температуру и отпорност на корозију и широко се користе у различитим областима као што су ваздухопловни и медицински уређаји.

Opis

Схаанки Зхонгхенг Веицхуанг Метал Материалс Цо, Лтд. Налази се у високој технолошкој зони Град Баоји, Шаанки провинцији. The company mainly produces conventional processed profiles such as plates, strips, foils, rods, wires, and pipes made of tantalum, niobium, hafnium, tantalum tungsten alloy, niobium hafnium alloy c103, as well as deep processed products such as ships, crucibles, sputtering targets, coating targets, machined parts, high-temperature furnace insulation screens, Грејни елементи, тела за пећи (пећи за грејање, пећи за жарења) и опрема отпорна на корозију.

 
 
Параметри спецификација и циљане врсте материјала
product-580-580
01.

Спецификације величине

Округли циљни пречник: Стандардне величине укључују пречника 25,4 мм, 50,8 мм, 76,2 мм, 101,6 мм, 127 мм и 152,4 мм. Прилагођени пречник се могу проширити на 20-400 мм.

Величина квадратне циљеве: Дебљина 1-20 ММ Кс Ширина 10-1000 мм Кс Дужина 200-2000 мм (подржава нестандардно прилагођавање).

Ротирајућа дужина циља: до 1500 мм, захтева везивање за ослобађање бакра без кисеоника.

02.

Циљни материјал тип

Равна мета: кружна \/ квадратна подлога, одступање равности мање или једнако 0. 2 мм.

Ротирајућа мета: цилиндрична структура, погодна за велики део. Опрема за превлачење.

Композитни циљни материјал:
       
Везивање бакрене плочице: Дебљина слоја бакра {0}} мм, интерфејс порозност мање или једнака 0,1%.
       
АЛЛОИ ТАРТИОН (као што је ТАНБ20): Подесиви коефицијент ниобије танталум (ТА {1}}: 20\/70: 30\/60: 40).

product-1024-1024

 

Основна подручја апликација

1, полуводичка и производња чипа
Проводни слој \/ преградни слој: Циљни материјал високе чистоће 4Н разред (већи од или једнак 99,99%) користи се као дифузијски преградни слој за међусобне везе у бакрама у чиповима, подржавајући минијатуризацију минијатуризације 5Г чипова.
Уређаји за складиштење: чврсти диск (ХДД) Магнетни слој и заштитни слој ССД-а за побољшање густине складиштења података.

2, специјална индустрија и научна истраживања
Уређај нуклеарне физике: Зрачење отпорно на ниобијене листове (дебљина {0}}. 1-5 мм) користе се за детекторе честица и заштитне компоненте.
Аероспаце: премаз отпорно на високе температуре за сечиве турбине (радно стање 1700 степени Ц), одлична топлотна отпорност на ударце.
Медицински уређаји: биокомпатибилни премаз, модификација површине ортопедског имплантата.

3, нова енергија и оптички уређаји
Photovoltaic cells: Anti reflective layer/conductive layer, light transmittance>95%, побољшање ефикасности фотоелектричне конверзије.
Стакло за уштеду енергије: Стакло ниско-е, инфрацрвена контрола рефлексије, изградња брзине уштеде енергије од 30%.
Лидар: Лидар оптички антифлективни филм смањује губитак светлости и повећава тачност сигнала.

НИОБИУМ СПУТТРИИНГ ТАИЛМ МАТЕРИЈАЛ, као основни материјал превлачења високих перформанси, постао је неопходна кључна компонента у областима полуводича, нове енергије и специјалне индустрије због одличне високе температурне отпорности, хемијске стабилности и функционалне прилагодљивости. У будућности, са итеративним унапређењем технологија као што су 5Г чипови и фотонапонских ћелија, потражња за чистоћим и прилагођеним циљаним материјалима, промовисање развоја процеса припреме материјала и зеленило.

Popularne oznake: НИОБИУМ СТРУПТИНГ ТАРТИРАЊЕ, Кина Ниобиум Спуптринг Циљни произвођачи, добављачи, фабрика

Можда ти се такође свиђа

Кесе за куповину